电子行业用制氮机
氮气在各行各业当中应用广泛。可用于电子产品的封装、烧结、退火、还原、储存等。主要应用于波峰焊、回流焊、水晶、压电、电子陶瓷、电子铜带、电池、电子合金材料等行业。电子行业对氮气要求一般比较高,通常需要99.9%或99.99%、以及99.99%以上的氮气。
电子工业 半导体和集成电路制造过程的气氛保护,清洗,化学品回收等。
大规模集成电路、彩电显像管、电视机和收录机元件及半导体元件处理的氮气源。
在电子元件和半导体元件的生产过程中,需要采用纯度达99.999%以上的氮气作为保护气体。目前,我国已将高纯氮作为载气和保护气应用于彩电显像管、大规模集成电路、液晶及半导体硅片等生产过程。
工艺架构:
1. 空气压缩机:空气通过空气压缩机进行收集和压缩,为氧气发生器提供气源。参考指标:电压和功率。
2.四级过滤器:空气净化作用。可以过滤压缩空气当中的颗粒,水,油,粉尘。过滤精度达到0.01ppm。
3.冷冻干燥机:通常进入空气网的压缩空气都含有100%的水蒸汽。当空气冷却时蒸汽便会凝结,所以不仅会破坏压缩空气系统,还会对最终产品造成损坏。空气经过冷冻干燥机的干燥处理,可以保证设备系统健康运行。
(当空气露点≦45℃,另外选配吸附式干燥机,对低露点气源进行二次处理)
4.空气储存罐:空气经过一定带压设备的处理,需要在进入下一个组件之前,稳定和缓冲压力的作用。一级和二级两只储气罐。
5.氧气发生器:采用PSA变压吸附工艺,通过分子筛吸附和脱附的相互交替,实现氧氮分离。
6.氧气储存罐:从氧气发生器出来的合格氧气,通过管道输送到氧气储罐中。氧气罐自带安全阀,当压力达到一定的数值,安全阀会自动泄放压力,使整个系统处于安全的工作环境。
技术特点
1、原料空气取自自然,只需提供压缩空气和电源即可制取氮气。设备能耗低,运行成本费用少。
2、氮气纯度调整方便,氮气纯度只受氮气排气量的影响,普通制氮纯度在95%-99.999%之间任意调节;高纯度制氮机可在99%-99.999%之间任意调节。
3、设备自动化程度高,产气快,可无人值守。启动、关机只需按一下按钮,开机20-40分钟内即可产生氮气。
4、设备工艺流程简单,设备结构外形紧凑,占地面积小,设备装置适应性强。
5、暴风雪法装填分子筛,避免高压气流冲击导致分子筛粉化现象,确保分子筛长时间使用。
6、数显流量计带压力补偿、高精度的工业过程监控二次仪表,具有瞬时流量及累积计算的功能。
7、在线分析仪浓度检测,高精度,免维护。
8、不合格气动自动放空,无需人为,保证工作效率。
9、可设计不合格纯度报警,
10、预留PLC的通讯接口(RS485),与买方上位机通讯。
技术指标参数:
流量:3~2000nm3/hr
纯度:≥95-99.999%
压力:0.01-0.8Mpa(以内可调)
露点:-45℃
氧含量:≤5ppm
过滤精度:0.001ppm
型号 | 流量(m3/hr) | 纯度(%) | 高纯度(%) | 压力(Mpa) | 动力来源 | 工艺 | 露点(℃) | 低露点(℃) | 产成品 |
XTFD-10 | 10 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | 天然空气 | PSA 变压吸附式 | -45 | -70 | 氮气 |
XTFD-20 | 20 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-30 | 30 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-50 | 50 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-100 | 100 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-200 | 200 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-300 | 300 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-500 | 500 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-1000 | 1000 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-1500 | 1500 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 | ||
XTFD-2000 | 2000 | ≥95 | 99.9995 | ≤0.8 | -45 | -70 | 氮气 |